硅片超聲波清洗機的清洗原理

硅片超聲波清洗機的清洗原理主要依賴于超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進流作用。具體來說，清洗機將電能轉化為機械能，使清洗槽中的液體產生高頻振動，形成聲波。當聲波作用于硅片表面時，會在其表面形成微小的氣泡并迅速破裂，從而產生強大的沖擊力，將硅片表面的污垢和雜質剝離并分散在清洗液中。